全息光栅是基于光相干迭加原理，利用两束激光干涉形成条纹制作而成的衍射光学元件，可通过扫描干涉场曝光技术在光敏材料上制备。该技术通过在光学玻璃基底涂覆光敏材料，经激光干涉曝光和溶蚀制成透射式或反射式光栅，最大线槽密度达4300条/mm，最大制造面积达1500mm×420mm。相比传统刻划光栅，其具有无鬼线、杂散光小（10-4）、分辨率高（达理论值80%~100%）等优势，衍射效率通过离子蚀刻技术可提升至95%。

在光学稳定的平玻璃坯件上涂上一层给定型厚度的光致抗蚀剂或其他光敏材料的涂层。由激光器发生两束相干光束，使其在涂层上产生一系列均匀的干涉条纹，则光敏物质被感光。然后用特种溶剂溶蚀掉被感光部分，即在蚀层上获得干涉条纹的全息像。所制得为透射式衍射光栅；如在玻璃坯背面镀一层铝反射膜后，可制成反射式衍射光栅。

这种方法制造的光栅线槽密度高，划面宽度大，刻线可达3663～4234条/mm，面积可达165×320mm2。

全息光栅没有鬼线，杂散光小，可消除机刻光栅的固有缺点，其实际分辨本领可达理论分辨本领的80%～100%。

a. 工作时不会产生鬼线和伴线，这是广大使用者最欢迎的。

b. 不存在刻划光栅刻槽的微观不规则或毛刺等缺陷，所以杂散光远远小于刻划光栅的杂散光。

c.衍射效率较低，全息光栅的槽形通常为近似正弦波形，这种槽形不具备闪耀条件，没有明显的闪耀特性。据称，采用“离子蚀刻”技术的全息光栅，使光栅衍射效率得到较大提高。

d.分辨率高。由于全息技术使光栅刻线总数大幅度增加，因此色散率、分辨率也大幅度得到提高。

e. 适当改变制作条件，就可制作成消像差的全息光栅。

f. 可以制作任意尺寸的全息光栅。

g. 制造周期短。

h. 制造成本低。