黄光是半导体光刻工艺中的关键技术环境，因使用对光刻胶不敏感的黄色照明光源而得名。黄光技术的核心是通过特定波长（通常为黄光波段）的光源进行图形转印，因光刻胶对黄光波段敏感度最低，工艺区域采用黄色安全照明避免误曝光。该技术通过在黄光区域内涂覆光刻胶、掩模图形曝光和显影处理，将微米级电路图案转印至基片表面，广泛应用于集成电路、平板显示和微机电系统制造。

黄光技术的核心是通过特定波长（通常为黄光波段）的光源进行图形转印。因光刻胶对黄光波段敏感度最低，工艺区域采用黄色安全照明避免误曝光。利用光刻胶的光化学反应特性，将掩模版图形经投影式光刻机精准投射，形成物理或化学性质差异的显影区域。