积累层是
半导体表面附近多数
载流子浓度显著增高的导电薄层。该层可由外电场感应形成。自然表面状态或外加电势通过固定
费米能级,导致载流子浓度与远离表面区域形成差异,产生空间梯度及介电函数变化。
这一层的导电性比体内要好得多。注意,积累层可采用外电场感应而形成(就像形成反型层——沟道一样),不能注入载流子来形成(因为多数载流子一般是不能注入的)。例如,在Nwell上加上一个方向朝下的正电场,则这个正电场会把电子吸引到Nwell上表面,在Nwell上表面的电子积累,即为电子的积累层。
对于处于负电阻状态下的半导体(如转移电子器件中的情况),其中多数载流子浓度的局部涨落将会导致多数载流子的大量积累,这也形成积累层;利用积累层的渡越可以产生微波振荡,这是转移电子器件的一种工作模式。