清洁表面指在特殊环境中经过特殊处理后获得的化学纯表面，其外来污染物无法被常规表面分析方法检测。制备过程需在超高真空环境下进行，涉及离子轰击、高温脱附、场效应蒸发、分子束外延等技术，处理手段包括超高真空解离、蒸发薄膜等操作环节。根据用途可分为原子级清洁表面（需超真空条件）和工艺技术清洁表面，常用清洁方法包含溶剂清洗、Ar+溅射等。

定产生义：不受任何污染的化学纯表面

：经特殊处理，经离子轰击后退火处理的表面。

特点：表面原子排列与晶体内部的排列发生明显的变化。附加能量。（4—6个原子层的厚度）